​　　精密零件加工進行表麵（miàn）工程或表麵處理的目的是：
　　(1)控製摩擦和磨損，

　　(2)改（gǎi）善（shàn）抗腐蝕性，

　　(3)改變物理性能，例如（rú），傳導（dǎo）率、電阻係數和反射率（lǜ），

　　(4)修改尺寸，

　　(5)變更外觀，例如（rú）顏色和粗糙（cāo）程度，

　　(6)降低成本。

　　通常的表麵處（chù）理可以分為兩個主要類型：覆蓋表麵的處理和改變表麵的處（chù）理。

　　１.覆蓋表（biǎo）麵

　　覆蓋表麵的處理包（bāo）括（kuò）有機塗層和無機塗層。

　　無機塗層有電鍍、轉（zhuǎn）化層、熱噴塗、熱浸漬、熔爐熔融、或在材料表（biǎo）麵塗（tú）上薄膜、玻璃、陶瓷。

　　電鍍是一種在電鍍槽通上電流使金屬沉澱在基體上的（de）電（diàn）化學過程。

　　通（tōng）常有一個陽極(正電極)，是要沉澱材料的來源；電化學反應是使金屬離子交換並遷移到要覆蓋基體上的中間過程；以及一個陰極(負電極)，即要覆蓋的基體（tǐ）。

　　電鍍在通常為非金屬容器(一般是塑料)的電鍍槽中進行。該容器裝滿了（le）含有離子態被鍍金屬的電解液。

　　陽極與電源正（zhèng）極相（xiàng）連。陽極通常為被鍍（dù）金屬(假定該金屬能在電解液中腐蝕)。為了操作（zuò）容易，該金屬呈固體小塊形式並置於由抗（kàng）腐蝕金屬(如鈦（tài）或不（bú）鏽鋼)製成的惰（duò）性金（jīn）屬筐內。

　　陰極是工件，即要（yào）鍍的基體，連接到電源的負極（jí）。很好地調節電源使波動最小化並在載荷變化（huà）情況(如同電鍍容器中看到的那樣)下提供穩定的可預知電流。

    一旦通（tōng）上電流，來（lái）自溶液的正的金屬離子被吸引到帶負電的陰極並沉澱在其上。作為這些沉澱離子的補充，來自陽極的金屬被溶解並進入溶液平衡離（lí）子勢能。

    熱噴塗（tú）工（gōng）藝：熱噴（pēn）塗金屬塗層（céng）是金屬熔化後立即投射（shè）到基體上形成的金屬沉積層（céng）。所用的（de）金屬和應用係統都可以變化，但大（dà）多數應用都是在（zài）要求改善抗腐蝕或耐（nài）磨性能的表麵塗上薄層。

   熱噴塗是用於很大一類相關工藝的（de）一個通（tōng）用術語，噴塗到表麵（miàn）產生塗層的熔化小滴可以是金屬、陶瓷、玻璃和/或聚合物，形成獨立的近似純形或產生具有獨特性能的（de）設（shè）計材料。

   大體上，有穩定熔化狀態（tài）的（de）任何材料都可以熱噴塗，範圍寬闊的純（chún）淨和合成（chéng）材（cái）料一般都能噴塗用於（yú）研究及（jí）工業（yè）目的。其沉積率（lǜ）與可供選擇的（de）塗（tú）層技術比較是很高的。

　　沉澱厚度普遍（biàn）為（wéi）0.1到1mm，對某些材料則沉澱厚度可以達（dá）到1cm以（yǐ）上。

　　 噴塗金屬的應用工藝相對（duì）簡單並由下列階段組成：

　　(1)在噴槍（qiāng）內熔化金（jīn）屬。

　　(2)通過壓縮（suō）空氣將液態金屬噴塗在準備好的基體上。

　　(3)熔化微粒投射在清潔過的基體上。

    現在有（yǒu）兩種主要的金屬絲應用（yòng）類型可選用，也就是電弧噴塗和氣（qì）體噴塗。

    電弧噴塗—當一對金（jīn）屬絲通過手持噴槍連（lián）到一起時，通上電橫過其末端劃燃電弧。壓縮空氣吹過電弧使其霧化並驅使自動送料金屬絲微粒到（dào）準備好的工件上。

    氣體噴塗—連續移動的金屬絲在燃燒火焰噴射中通過手持噴槍，並被燃燒（shāo）氣體的錐形噴嘴所熔化。熔化後的金屬絲頂端進入錐體（tǐ）霧化並驅（qū）使其到基體上。

   薄膜塗層：物理蒸發沉澱(PVD)和化學（xué）蒸發沉澱(CVD)是兩種最（zuì）常見薄膜塗（tú）層方法的類型（xíng）。

   物理蒸（zhēng）發沉澱塗層涉及到在真空（kōng）裝置內各種各樣的材料原子（zǐ）緊靠原子、分子緊靠分子或離（lí）子（zǐ）沉澱於固（gù）態基（jī）體上。

　　熱蒸發利用塗層金屬在（zài）真空環境中蒸發形成的微粒子霧將基體和靶材之間可見範圍內所有表麵覆蓋（gài）。在塑料零（líng）件（jiàn）上生成較薄(0.5μm)的、裝飾性的（de）、有光（guāng）澤的塗層時常（cháng）常（cháng）用到它。

　　然而，這種薄（báo）塗層是易碎（suì）的並（bìng）不適合用於磨損場合。熱蒸發工藝也能在噴氣發動機零件上覆蓋很厚(1mm)的耐熱材料塗層，例如MCrAIY—一（yī）種金屬、鉻、鋁和釔合金（jīn）。

　　反應濺射法通過在氬真空設備中（zhōng）連接工件和具有特定成（chéng）分的材料到高壓直（zhí）流電來應用諸如陶瓷、金屬合金、有機和無機化合物之類的高技術塗層（céng）。

　　等離子（zǐ）區形（xíng）成於基體（tǐ）(工件)和靶材(原料物質)之間並將被濺射的靶材原（yuán）子轉移到基體的表麵上。

　　如果基體不導電，例如聚合物，則采用射頻(RF)濺（jiàn）射代替。反應濺射法可以生（shēng）成較薄（báo）(小於3μm(120μin))的、堅硬薄膜塗層，像比最硬金（jīn）屬還硬的氮化鈦(TIN)。

　　現在反應濺射法已被廣（guǎng）泛應用於切（qiē）削刀具（jù）、成型工具、注射模具和諸如衝頭和衝模之類的通用器（qì）具，以增（zēng）強其耐磨（mó）性和使用壽（shòu）命。

　　化學（xué）蒸發沉澱（diàn）能在金屬和像玻璃和塑料之類的（de）非金屬上生成較厚的、致密的、有（yǒu）延伸性的和帶良好粘性的塗層。與物理蒸發沉澱在“可見範圍”對比，化學蒸發沉澱能將基體的所有表麵都覆蓋。

　　常規的化學蒸發沉澱塗（tú）層工藝需要一種容易在相當低溫度下揮（huī）發並且在較高溫度（dù）下與基體接觸時能（néng）分解成純金屬的金屬化合物。

　　最為人熟（shú）知的化學蒸發（fā）沉澱（diàn）例子是在玻璃窗（chuāng）和容器上鍍（dù）厚為2.5mm(0.1in.)的羰基鎳（niè）(NiCO4)塗層使它們能抵抗爆裂（liè）或破碎。

  為增加切削刀（dāo）具（jù）表麵硬度引入了鑽石化學（xué）蒸發沉澱塗層工藝。可是此工藝要在高於700℃(1300℉)的溫（wēn）度下才能實現，這溫度會（huì）軟化大多數工（gōng）具鋼。

　　因而鑽（zuàn）石（shí）化學（xué）蒸發沉澱的應用受（shòu）到材料限製，要（yào）求材料在（zài）此（cǐ）溫度下不軟化例如硬質合金。

    等離子體輔助化學蒸發沉（chén）澱塗層工藝可以在比鑽石化學（xué）蒸發沉澱塗層低的溫度下操作。這種化學蒸發沉澱用於（yú）在塑料膜和半導體(包（bāo）括人工0.25μm半導體的情況)上覆蓋鑽石塗層或碳化（huà）矽隔離塗（tú）層。

　　２.改變（biàn）表麵

　　改變表麵的處理（lǐ）包括淬火處理、高能加工和特殊處理。

　　高能（néng）加工是相對較新的表麵處理方法。它們能在不改變表麵（miàn）尺寸的情況下改變表麵性能（néng）。

　　電（diàn）子束處理：電子束處理在靠近表麵很淺(100μm)的區域通過用電子束快速加熱（rè）並以106℃/秒等級快速（sù）冷卻（què）來改變表麵性能。這種技術也被用於表麵（miàn）硬化產生（shēng）“表麵合金”。

　　離（lí）子注入：離子注入采用電子束或等離子體通過真（zhēn）空室內磁性線圈加速（sù）以足夠的能量將氣體（tǐ）原子撞（zhuàng）擊為離子，並把這些（xiē）離子嵌入（rù）基體的原（yuán）子點（diǎn）陣（zhèn）中。離子注入和金屬表麵（miàn）之間的錯配產生了（le）硬化表麵的原子瑕疵。

　　激光束（shù）處理：與電子束處理類（lèi）似，激光束處理通過在靠（kào）近表麵很淺的區域快速（sù）加熱和快速冷卻來改變表麵性（xìng）能。它也可以用於表麵（miàn）硬化產生“表麵合金”。

　　但（dàn）初步結果看來是有前途（tú）的。高能加工需要進一步的開發，特別是注入劑量和處理方法。